光学氟化镁涂层

单层氟化镁增透膜

氟化镁是应用最早的、最常见的、性能优良的光学镀膜材料。长春泷泽光学精密仪器有限公司积累了如何改善氟化镁镀膜工艺的经验，并形成了高质量、经济的镀膜体系。我司可为您提供符合您使用的单层氟化镁增透膜，欢迎询价!

氟化镁增透膜折射率低（N=1.38）、光学损耗低、透光范围120 nm- 8000 nm、膜层机械强度大和激光损伤阈值高。因而被广泛用于光学器件，尤其是紫外光学器件。它很容易通过真空沉积来施加，并形成坚硬，耐用的涂层。

应用：

根据不同的应用领域，如成像光学系统、激光光学系统、光学仪器、光纤通讯、激光技术、集成光学、冷光源等高科技领域，氟化镁薄膜可镀于应用在以上不同领域的光学透镜、光学棱镜、光学窗口片、光学反射镜等光学元件，起到减少反射光的作用。

什么因素影响着氟化镁镀膜效果呢？

长春泷泽精密光学仪器有限公司在成立以来，不断地学习并探索高质量、经济的镀膜技术，现已形成成熟的镀膜体系。根据您的需要，我们可为您提供高质量的单层氟化镁增透膜。

影响氟化镁镀膜效果的主要因素

v 薄膜厚度及其均匀性

薄膜厚度直接影响不同波长入射光的增透效果，而薄膜厚度的均匀性将直接影响光学器件的稳定性和可靠性。

v 氟化镁原料的状态

粉末状氟化镁为结构松散的自然堆积体，颗粒之间存在大量的气孔，并含有大量的结晶水。在预熔和镀膜时，氟化镁和水易发生歧化反应产生氧化镁和氟化氢气体。气孔及放气都将会使真空度骤降或产生喷溅，延长镀膜周期，降低膜层质量。而歧化反应则会导致膜层折射率偏高。

压片状氟化镁虽然在冷压过程中排除了部分气孔，但由于没能才能根本上消除气孔，并有少量结晶水存在，镀膜过程中仍会产生放气、喷溅及成膜折射率偏离的现象。

晶体氟化镁采用了真空低温预处理、高温脱气等过程。经处理后的晶体氟化镁组织内部均匀，最大限度地排除了产生放气、喷溅、不良化学反应等内部原因，使镀膜条件和膜层质量得到优化。

v 原料蒸镀质量

选择合适质量的原料对于薄膜的增透性能至关重要，是获得接近理想厚度（d=λ/4N）薄膜的前提。原料实际蒸镀质量（不同于名义蒸镀重量）与膜厚d呈线性关系。

v 蒸发源

针对不同的原料应选取不同蒸镀方式，最大限度发挥真空蒸发法的优势。对于颗粒度较小或熔点较低的原料（氟化镁），热电阻比电子束蒸镀更容易控制，同时可避免原料污染。

v 镜片间距和位置

基片置于旋转工转盘中心比其侧部分区域所镀薄膜更厚、均匀性更好。

基于以上因素，长春泷泽精密光学仪器有限公司已找到有效的解决方法来保证镀膜质量，并有相应的检测设备做技术支持。欢迎您的咨询，请联系：talia@clzoptics.com。